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芯片業(yè)迎來發(fā)展新契機,英特爾/臺積電如何引領(lǐng)“虛擬”摩爾定律時代

作者:admin 來源:不詳 發(fā)布時間:2018-01-05  瀏覽:60

臺灣半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會的理事長盧超群預(yù)期“虛擬”摩爾定律時代即將來臨,并將有機會為晶片產(chǎn)業(yè)再次迎來成長和盈利…


臺灣半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(TSIA)理事長盧超群(Nicky Lu)正期待“虛擬”摩爾定律(“virtual”Moore’s Law)時代的來臨,因為它將有機會為晶片產(chǎn)業(yè)再次迎來成長和盈利。


“半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)即將出現(xiàn)另一個30年的成長期!北R超群在接受《EE Times》采訪時預(yù)測,“我們即將見證‘實質(zhì)’的1nm制程技術(shù)出現(xiàn)。屆時摩爾定律將以‘虛擬的’摩爾定律形式存在。”


半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)需要再次起飛。管理諮詢機構(gòu)麥肯錫(McKinsey)在2015年的一份報告中指出,從1995年到2008年,這個領(lǐng)域出現(xiàn)了7%的復(fù)合年成長率(CAGR),為股東帶來較整個股票市場更高三倍的投資報酬,F(xiàn)在,情況明顯有了很大的變化。


盡管有些半導(dǎo)體公司持續(xù)成長以及不斷并吞較小規(guī)模的競爭對手,但這個領(lǐng)域的整體成長和營收卻一直在下滑。


盧超群認為,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)將有機會擺脫年營收約4,000億美元的停滯期,并在1nm時實現(xiàn)1兆美元的營收前景。他在日前于日本富山市舉行的“IEEE亞洲固態(tài)電路會議”上發(fā)表《新晶片途徑》(A New Silicon Way)一文,描繪了一個突破晶片傳統(tǒng)線性微縮限制的新時代。


線性微縮明顯已經(jīng)達到實體極限了。盧超群指出,“人們經(jīng)常說致力于10nm制程,但你其實找不到任何線寬達到10nm的這個等級!


擺脫2D平面


這正是技術(shù)發(fā)展轉(zhuǎn)而采取非線性路線的原因。2011年,英特爾(Intel)發(fā)布了三閘極(Tri-gate)技術(shù),率先從平面開發(fā)的晶片上電晶體轉(zhuǎn)向三維(3D)結(jié)構(gòu)。采用3D結(jié)構(gòu)后,即使是微縮0.85倍也能讓電晶體密度達到像是以2D平面方式實現(xiàn)0.5倍微縮的效果,盧超群指出。


其它公司也紛紛追隨這一趨勢。東芝(Toshiba)建構(gòu)了48個層3D NAND,這款記憶體已經(jīng)用在蘋果(Apple)的iPhone 7智慧型手機上。三星(Samsung)更進一步打造64層快閃記憶體元件。盡管其技術(shù)水準大約只有32nm,但實際上等同于13nm的效果,盧超群表示。


“我們現(xiàn)在正處于采用垂直電晶體的‘Silicon 2.0’時代,微縮參數(shù)大約在0.8至0.85之間!彼赋觯岸搅恕甋ilicon 3.0’就會像是一種3D的形式。我們將見證越來越多的業(yè)者朝此方向發(fā)展!


正如盧超群在發(fā)表的論文中所描述的,他預(yù)計在‘Silicon 4.0’將出現(xiàn)飛躍式進展。在當(dāng)前3.0基礎(chǔ)上的技術(shù)進步催生了許多新的應(yīng)用,如擴增實境(AR)、虛擬實境(VR)和機器智慧,他表示。下一個階段則是他所謂的“異質(zhì)整合”(heterogeneous integration),或透過像整合式扇出(InFO)等技術(shù)實現(xiàn)矽晶和非矽晶材料的整合。


展望InFO和更先進技術(shù)


InFO是臺積電(TSMC)公司開發(fā)的一種封裝技術(shù),由于將接合焊盤放在矽晶邊緣,因而不需要再與基板互連。InFO可以使封裝厚度減小20%、速度提高20%,同時提高10%的熱性能。


英飛淩科技(Infineon Technologies)在2008年將這種技術(shù)發(fā)展成為嵌入式晶圓級球閘陣列(eWLB),用于削減成本和封裝厚度,同時提升元件的整合度。然而,在臺積電推出商用化InFO之前,良率問題一直阻礙著這種新技術(shù)的導(dǎo)入。


“這種新的InFO結(jié)構(gòu)將引領(lǐng)異質(zhì)整合進入Silicon 4.0時代!北R超群表示,“另一項創(chuàng)新是直通互連通孔(TIV)技術(shù),它就像是利用一條管柱使晶片與外部連接。這樣就能同時為晶片內(nèi)部與外部實現(xiàn)水平和垂直互連能力。這是異質(zhì)整合持續(xù)發(fā)展的關(guān)鍵。過去由于沒有InFO技術(shù)因此無法實現(xiàn)TIV!


如今,藉由InFO技術(shù),晶片可以直接連接諸如透鏡、感測器或致動器等目前嵌入于系統(tǒng)中但仍未微型化的元件,盧超群指出。


“這就是使用InFO實現(xiàn)的晶片與非晶片的異質(zhì)整合!彼硎荆澳壳斑@些元件全部都被安裝在印刷電路板(PCB)上,需要消耗很多功率,F(xiàn)在我們離最佳化的功耗還有5個數(shù)量級!


在盧超群看來,這正是代工廠、晶片設(shè)計者和系統(tǒng)公司得以展開合作的新機會。晶片領(lǐng)域目前的整體產(chǎn)業(yè)規(guī)模約有3,000億美元,但消費性電子則是一個擁有高達1.6兆美元的產(chǎn)業(yè),他指出。


系統(tǒng)制造商需要異質(zhì)整合來打造體積更小、功耗更低的元件,盧超群表示。


“未來將會十分順利地過渡到這些新技術(shù),畢竟我們距離摩爾定律的終結(jié)還有兩代之遙!北R超群表示,“三閘極、3D NAND和InFO等技術(shù)的進展如今都非常順利。未來,晶片將持續(xù)微縮到5nm,而能夠?qū)崿F(xiàn)等效于1nm平面架構(gòu)的性能!



編輯:admin  最后修改時間:2018-01-05

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