鍍復SiO2膜的電容器介質(zhì)膜
鍍復SiO2膜的電容器介質(zhì)膜
成功一種能在幾百小時連續(xù)沉積SiO2膜的新穎電子束蒸發(fā)裝置，獲國家發(fā)明專利，在此基礎上開發(fā)出鍍復SiO2膜的電容器介質(zhì)膜。用鍍復SiO2（或AL2O3）膜的PP、PET膜制作電容器，其體積大幅度縮小，介質(zhì)損耗極小，耐壓提高，能在高溫下穩(wěn)定地工作。
主要技術(shù)性能或技術(shù)指標：可鍍薄膜：所有有機薄膜與樹脂薄膜；薄膜厚度：4-20μ；SiO2膜厚度：500-1000A；損耗角正切：tano≤0.001(1kHZ);日產(chǎn)薄膜：0.5噸應用領(lǐng)域及市場前景： PET、PP等電容器介質(zhì)薄膜及其金屬化介質(zhì)。
? 效益分析：①電容器的性能參數(shù)大幅度提高，從而使產(chǎn)品檔次提高。②電容器體積縮小，有機薄膜用量減小三分之一以上。
編輯：admin 最后修改時間：2017-09-05
